デバイス観察/フォトマスクリペア製品情報

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フォトマスクリペア

全4製品

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	SIR-7
	フォトマスクリペア装置
	SIR-7は、65nmノードから45nmノードの半導体デバイス用フォトマスクやレチクル上の欠陥を、集束イオンビーム（FIB）を用いて修正する装置です。低加速鏡筒を採用することにより、バイナリーマスクや位相シフトマスクなどフォトマスク上の微小な欠陥や複雑な形状の欠陥を、高精度かつ低ダメージで修正する事が可能です。

	SIR-5
	フォトマスクリペア装置
	フォトマスク上に生じる10µm以上の大型白欠陥を、集束イオンビーム（FIB)を用いて修正するフォトマスク欠陥修正装置です。最先端のプラットフォームに、長年培ってきた修正技術を取り入れて、使いやすくかつ高精度な欠陥修正を実現しました。